Types de placage autocatalytique au nickel
Coolidge
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2018-09-19 15:41:16
Nickel autocatalytique à faible teneur en phosphore
Le traitement à faible teneur en phosphore est appliqué aux dépôts dont la dureté peut atteindre 60 sur l'échelle de Rockwell C. Il offre une épaisseur uniforme sur les surfaces intérieures et extérieures de formes complexes, ce qui élimine souvent le besoin de meulage après le placage. Il est également excellent pour la résistance à la corrosion dans les environnements alcalins.
Nickel autocatalytique au phosphore moyen
Le nickel autocatalytique au phosphore moyen (MPEN) a une teneur en phosphore de 4 à 10%, selon son application. Pour les applications décoratives, 4 à 7% sont considérés comme du phosphore moyen; pour les applications industrielles, 6–9%; et pour l'électronique, 4–10%. La solution de placage EN comporte généralement huit composants: le nickel, un agent réducteur, un agent complexant, des stabilisants, des tampons, des azurants, des tensioactifs et des accélérateurs. Le sulfate de nickel est une source de nickel typique et l'hypophosphite de sodium est un agent réducteur typique. L'agent complexant est nécessaire pour augmenter la solubilité du phosphate et prévenir les phénomènes de blanchiment en ralentissant la réaction. Ils ne sont pas co-déposés dans l'alliage résultant. Les acides carboxyliques ou les amines sont des agents complexants typiques. Les stabilisants, comme le plomb, le soufre ou les composés organiques, ralentissent la réduction par co-dépôt avec le nickel. La plupart des agents complexants agissent comme des tampons. Les azurants sont principalement co-déposés avec le nickel et sont généralement des stabilisants, comme le cadmium ou certains composés organiques. Les surfactants abaissent la tension superficielle pour réduire les piqûres et les taches. Des accélérateurs tels que des composés soufrés sont ajoutés pour surmonter la vitesse lente de placage provoquée par les agents complexants et sont généralement co-déposés, décolorant souvent le dépôt.
Le placage MPEN se dépose rapidement et est très stable, avec des finitions brillantes et semi-brillantes. Le traitement souvent utilisé pour les équipements dans les industries d'élimination de lisier.
Nickel autocatalytique à haute teneur en phosphore
Le nickel autocatalytique à haute teneur en phosphore offre une résistance élevée à la corrosion, ce qui le rend idéal pour les normes industrielles exigeant une protection contre les environnements acides hautement corrosifs tels que le forage pétrolier et l'extraction du charbon. Avec une microdureté allant jusqu’à 600 HV, ce type assure une très faible porosité de surface où un placage sans fosse est nécessaire et n’a pas tendance à tacher. Les dépôts sont non magnétiques lorsque la teneur en phosphore est supérieure à 11,2%. [8]
Le traitement à faible teneur en phosphore est appliqué aux dépôts dont la dureté peut atteindre 60 sur l'échelle de Rockwell C. Il offre une épaisseur uniforme sur les surfaces intérieures et extérieures de formes complexes, ce qui élimine souvent le besoin de meulage après le placage. Il est également excellent pour la résistance à la corrosion dans les environnements alcalins.
Nickel autocatalytique au phosphore moyen
Le nickel autocatalytique au phosphore moyen (MPEN) a une teneur en phosphore de 4 à 10%, selon son application. Pour les applications décoratives, 4 à 7% sont considérés comme du phosphore moyen; pour les applications industrielles, 6–9%; et pour l'électronique, 4–10%. La solution de placage EN comporte généralement huit composants: le nickel, un agent réducteur, un agent complexant, des stabilisants, des tampons, des azurants, des tensioactifs et des accélérateurs. Le sulfate de nickel est une source de nickel typique et l'hypophosphite de sodium est un agent réducteur typique. L'agent complexant est nécessaire pour augmenter la solubilité du phosphate et prévenir les phénomènes de blanchiment en ralentissant la réaction. Ils ne sont pas co-déposés dans l'alliage résultant. Les acides carboxyliques ou les amines sont des agents complexants typiques. Les stabilisants, comme le plomb, le soufre ou les composés organiques, ralentissent la réduction par co-dépôt avec le nickel. La plupart des agents complexants agissent comme des tampons. Les azurants sont principalement co-déposés avec le nickel et sont généralement des stabilisants, comme le cadmium ou certains composés organiques. Les surfactants abaissent la tension superficielle pour réduire les piqûres et les taches. Des accélérateurs tels que des composés soufrés sont ajoutés pour surmonter la vitesse lente de placage provoquée par les agents complexants et sont généralement co-déposés, décolorant souvent le dépôt.
Le placage MPEN se dépose rapidement et est très stable, avec des finitions brillantes et semi-brillantes. Le traitement souvent utilisé pour les équipements dans les industries d'élimination de lisier.
Nickel autocatalytique à haute teneur en phosphore
Le nickel autocatalytique à haute teneur en phosphore offre une résistance élevée à la corrosion, ce qui le rend idéal pour les normes industrielles exigeant une protection contre les environnements acides hautement corrosifs tels que le forage pétrolier et l'extraction du charbon. Avec une microdureté allant jusqu’à 600 HV, ce type assure une très faible porosité de surface où un placage sans fosse est nécessaire et n’a pas tendance à tacher. Les dépôts sont non magnétiques lorsque la teneur en phosphore est supérieure à 11,2%. [8]